プレシオ国際特許事務所

プレシオのメンバー

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速水進治

代表弁理士 速水 進治(Shinji Hayami)

1997年弁理士登録。国内大手特許事務所を経て、2004年にプレシオ国際特許事務所を設立。特許出願にあたっては、競合の参入をしっかり阻止する”使える特許“の生成にフォーカスし、事業を守り育てる観点から権利化のシナリオを提案する。企業での開発経験を踏まえ、きめ細かなアドバイスを行っている。

現在の担当業務

技術分野:化学、材料、デバイス、ソフトウエア等。
内外国特許業務、鑑定、訴訟、コンサルティング、各種セミナー、講演等。

バックグラウンド

東京大学教養学部基礎科学科第一卒業
専攻:物理化学 化学と物理の境界領域を指向
   化学全般のほか、量子力学、統計力学等を学ぶ。
卒論テーマ「超音速自由噴流中における分子内電荷移動状態の研究」

過去に行った特許セミナー、講演の例

<学会>
・注目を集めた生物模倣技術の特許出願例(高分子学会バイオミメティクス研究会、2014年11月)
・自己修復材料の技術分野における特許出願動向と優れた特許を得るための手法(日本化学会第94春季年会、2014年3月)
<一般セミナー>
・進捗性欠如の拒絶理由通知の対応技術
・数値限定発明・パラメータ発明の実務
・用途発明・パラメータ発明の特許プラクティス
・化学・材料分野における障害特許への対応ノウハウ
・審判決例に学ぶ明細書の記載要件
  ~審査および権利行使に耐える強い明細書の作成技術~
・特許クレーム解釈の実務
  -障害特許の権利範囲を正確に分析するための基礎と実践-
・問題特許の分析と対応 ~他社特許の権利範囲の分析技術と無効化~
・特許権利化プロセスおよび障害特許対策における実験データの活用
・権利行使に耐える強い明細書作成のポイントと他社特許分析技術
・知的財産の活用とリスクマネジメント

著作

・「化学・材料系 拒絶理由対応」サイエンスアンドテクノロジ株式会社(共著)、2017年2月
・「工業材料 2015年8月号(共著)【特集】本格化するバイオミメティクス材料の開発」、2015年8月
・「自己修復(キズ復元)材料の最新技術,メーカー採用のトレンド」
  株式会社技術情報協会(共著)、2011年6月
・「化学・材料系 勝てる!特許実務」 サイエンスアンドテクノロジ株式会社(共著)、2011年3月
・「拒絶理由通知への対応ノウハウ」 サイエンスアンドテクノロジ株式会社(共著)、2009年3月
・「化学・材料技術分野における特許実務のノウハウ」 サイエンスアンドテクノロジ株式会社、2007年6月
・「ソフトウェア業界における収益構造の多様化に対するクレームドラフティングによる対応」
  パテント2006、Vol. 59 No. 6 (共著)
・「ビジネス関連発明における「発明の成立性」に関する実務的考察 —特許法第29条第1項柱書違反の
  拒絶を回避するために—」パテント2004、Vol. 57 No. 6 (共著)

資格

・特定侵害訴訟代理資格

天城 聡

パートナー弁理士 天城 聡(Satoshi Amagi)

現在の担当業務

技術分野:半導体、ソフトウエア、電子デバイス、光デバイス、金属材料及び精錬プロセス、TLO等
国内出願、外国出願、中間処理、鑑定、発明の発掘及びコンサルティング等を担当

前職

1.製鉄会社勤務

製鋼工程(予備処理~転炉での精錬)の管理及びプロセス改善に従事。特に、予備処理工程における副原料の最適化を重点的に行う。

2.国内特許事務所

技術分野:半導体、金属材料及び精錬プロセス、ソフトウエア、電子デバイス、光デバイス、無機材料、画像処理、プリンタの構造及び制御、TLO等 国内出願及び中間処理、内外出願、異議申し立て、発明発掘等のコンサルティング等を担当。

バックグラウンド

東京大学大学院工学系研究科金属工学専攻修士課程終了
専攻:プラズマCVD

著作

「拒絶理由通知への対応ノウハウ」 サイエンスアンドテクノロジ株式会社(共著)、2009年3月

清水 京

弁理士 清水 京 (Kei Shimizu)

現在の担当業務

技術分野:化学、材料、化粧品、食品、医薬、電子デバイス
国内出願、外国出願、中間処理、鑑定等を担当

前職

1.食品メーカー勤務

加工食品、新素材関連の研究開発に従事

バックグラウンド

慶應義塾大学大学院理工学研究科物質科学専攻修了

資格

特定侵害訴訟代理付記

著作

「拒絶理由通知への対応ノウハウ」 サイエンスアンドテクノロジ株式会社(共著)、2009年3月

中谷 陽子

弁理士 中谷 陽子(Yoko NAKATANI)

現在の担当業務

国内外国特許業務を中心に担当
その他商標・意匠業務及びコンサルティング等を担当

バックグラウンド

お茶の水女子大学大学院 人間文化研究科ライフサイエンス専攻修了

著作

化学・材料系 勝てる!特許実務~技術者・研究者が自ら開発成果を活かせる最強本~

綾田 英利

弁理士 綾田 英利(Hidetoshi Ayada)

現在の担当業務

主にソフトウエア分野、電気・電子分野の国内出願、 外国出願、中間処理等を担当。
発明内容を十分に理解した上で、明確な明細書等を作成している。 また、中間処理においては審査官の意図を十分に読み取り、適切かつ論理的な回答を行っている。

前職

1.商社勤務(技術営業)

企業の研究部門のニーズをヒアリングし、そのニーズに合った特殊化学品を設計、提供する業務を行う。

2.国内特許事務所(特許技術者)

大手電機メーカによるソフトウエア分野等の発明、大学による化学分野等の発明、ベンチャー企業による発明等、幅広いお客様の幅広い発明における国内出願、外国出願、中間処理等を担当。

バックグラウンド

名古屋大学工学部応化・物化学科卒業

染野 健

弁理士 染野 健(Ken Someno)

現在の担当業務

電気・電子分野の国内出願、国内・外国の中間処理を中心に担当。
大手資格予備校にて弁理士受験指導にあたる。初学者向け講座から上級者向け講座全般にわたって、教壇講師、教材作成、問題作成等幅広い業務に取り組む。 抽象的な法律事項を具体的な事象に落とし込み受験生に指導。
量子デバイスの基礎研究(ナノ結晶シリコン量子ドットの作製およびその光学的特性の研究)を行う。
研究のみならず、国際学会での口頭発表、英文論文誌への投稿等の外部活動も実施。

バックグラウンド

・早稲田大学 理工学部 電気・情報生命工学科 卒業
・東京工業大学大学院 理工学研究科 電子物理工学専攻 修士課程修了

萩原 京平

弁理士 萩原 京平(Kyohei Hagiwara)

現在の担当業務

化学・バイオ分野、電気・電子分野の国内出願、外国出願、国内・外国の中間処理、情報提供、調査等を中心に担当。
国内化学メーカー勤務時に携わった研究・技術開発の経験を活かしながら、様々な角度から、強くて有効な特許権取得に向けた提案をおこなっている。

前職

国内化学メーカーに勤務。

リチウムイオン電池材料、工業用バリア材料の研究・技術開発に携わる。特に、リチウムイオン電池材料の研究・技術開発においては、新グレードの開発、特許出願、他社特許対応、新グレードの量産化検討、顧客への技術フォロー等幅広い業務に尽力する。

バックグラウンド

・千葉大学工学部物質工学科卒業
・千葉大学大学院自然科学研究科・材料物性工学専攻修了

水長 雄大

弁理士 水長 雄大(Yudai Mizunaga)

現在の担当業務

化学、バイオ分野、半導体/電子デバイス、機械分野において、国内・外国における権利化業務全般を担当。
知財を活用する企業の立場に立って、密接に連携し、具体的かつ現実的なアドバイスを提供できる。アプリケーション開発の経験から、商品企画・開発・マーケティング・販売までの過程において、様々な切り口からの提案が可能。知的専門知識と包括的なビジネス経験を組み合わせて、付加価値の高い顧客サービスを提供できる。

バックグラウンド

・東京工業大学生命理工学科生物工学コース卒業
・東京工業大学大学院生命理工学研究科生物プロセス専攻修了

著作

化学・材料系 勝てる!特許実務~技術者・研究者が自ら開発成果を活かせる最強本~

吉田 哲也

弁理士 吉田 哲也(Tetsuya Yoshida)

現在の担当業務

主にソフトウエア、電気・電子分野の国内出願、外国出願、中間処理を担当。
情報分野の博士号を有しており、その専門知識を活かし、発明の内容を詳細に理解した上で業務を行っている。

前職

1.国内ソフトウエア開発企業に勤務

システムエンジニア

2.慶應義塾大学大学院 特任助教

バックグラウンド

・慶應義塾大学大学院 理工学研究科 開放環境科学専攻 後期博士課程修了
・専門:仮想マシン技術、オペレーティングシステム、その他システムソフトウエア

資格

・博士(工学)

・TOEIC:890点

受賞歴

・情報処理学会論文賞(2009年度、2012年度)

所属学会

・情報処理学会

舘田 英加

弁理士 舘田 英加(Eika Tachida)

現在の担当業務

電気・電子分野、ソフトウエア分野の国内出願、外国出願、中間処理を担当。
電子工学分野で博士号を取得しており、その専門知識と研究開発の経験を活かし、発明の深い理解と発想力に根差した業務を行っている。

前職

1.科学技術振興機構 研究員

2.慶應義塾大学 特任助教

ナノクラスター材料のデバイス応用に関する研究に従事

バックグラウンド

・京都大学工学部電気電子工学科卒業
・京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 修士課程修了
・京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 博士後期課程修了
博士論文題目
「デュアルプローブ原子間力顕微鏡の開発及びナノスケール電気特性評価への応用」

資格

・博士(工学)

舘田 英加

弁理士 執行 敬宏(Takahiro Shigyo)

現在の担当業務

化学、材料、生産技術分野の国内出願、外国出願、中間処理を担当。
特に、半導体製造用ケミカル材料に関する知見を有する。

前職

国内メーカー知財部に勤務(8年間)

半導体製造用ケミカル材料分野(感光性樹脂組成物、各種薬液等)の知財業務に従事。

特許出願・中間処理のみならず、発明発掘、自社特許権の活用、係争対応、若手研究者への特許教育、海外子会社の知財活動強化など、幅広い業務を経験。

バックグラウンド

・京都大学大学院 工学研究科 合成・生物化学専攻 修士修了

論文題目
「金属表面におけるメタノール酸化反応と吸着CO分子の光電子スペクトルに関する理論的研究」

量子化学的手法に基づき、金属表面における触媒反応のメカニズムや金属表面-吸着分子間の相互作用の詳細を解明した。 具体的には、白金表面におけるメタノール酸化反応について、量子化学計算により反応機構を解明した。また、銅表面に吸着したCO(一酸化炭素)分子の光電子スペクトルを、高精度量子化学計算に基づき帰属し、金属表面-吸着分子の軌道間相互作用の詳細を明らかにした。

資格

TOEIC 885点(2011年)

●技術者 A

技術分野:
コンピュータソフトウエア/ハードウエア、ファームウエア、LSI、通信、ネットワーク、画像処理など。
業務分野:内外国特許業務
前 職:(i)国内大手電機メーカ勤務、(ii)国内大手国際特許事務所勤務
バックグラウンド:東京理科大学理学1部応用化学科卒業
資 格:日本英語検定協会 実用英語技能検定2級合格、第二種情報処理技術者試験合格(平成2年)

●技術者 B

技術分野:化学、電子デバイス、シリコン半導体/化合物半導体 など
業務分野:内外国特許業務
前 職:(i)国内化学メーカ勤務、(ii)国内大手国際特許事務所勤務
バックグラウンド:東京農工大学農学部生物制御化学科卒業
資 格:甲種危険物取扱者

●技術者 C

技術分野:化学、材料、半導体
業務分野:国内出願、外国出願、中間処理
前 職:特許事務所勤務
バックグラウンド:岡山大学大学院理学研究科化学専攻修了

●技術者 D

技術分野:ソフトウエア分野
業務分野:内外国特許出願、中間処理を担当
前 職:国内メーカー(ソフトウエア部門)勤務。SEとしてシステム開発に従事。
バックグラウンド:早稲田大学 理工学部 コンピュータ・ネットワーク工学科卒業

●技術者 E

技術分野:化学、材料、半導体など
業務分野:内外国特許業務
前 職:国内大手自動車部品メーカー勤務
バックグラウンド:東京工業大学大学院理工学研究科物質科学専攻修了